172nm光刻及相关半导体加工工艺(Lithography Related)
独特的172纳米波长，新型平面微腔阵列光源技术兼具高功率，以及超乎寻常的均匀性和多功能性，高效能且紧凑的模块化设计，这些革命性的实现都由引入π2-CYGNI系列真空紫外光处理系统开始。不堵的匀胶机，不易堵、好清洗，采用四重防堵技术省去使用中频繁拆洗和清理困①电机内置废液罐，确保电机寿命②可拆卸式匀胶机腔体，便于清洗③外置集液罐和排液管④样品夹具采用分离式防堵设计。
