172nm光刻及相关半导体加工工艺(Lithography Related)
主要特性
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高精度光刻--实现如此简单 使用简洁的设计和简约的方法，α -line重新定义了的手动对准系统的 性能期望和价格范围。利用CygnusPhotonic先进的π-Photon 172nm 光源，α -line简化了传统的高分辨率光刻，并引入了现有对准系统不易实现的新处理能力。
